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g跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消息,国家知识产权局局长申(shēn)长雨在新闻发(fā)布会(huì)上表(biǎo)示(shì),将统筹(chóu)推进各类知识产权法律法(fǎ)规和制度规则的(de)制(zhì)修订(dìng)工(gōng)作。其中,修改(gǎi)完善集成(chéng)电(diàn)路布(bù)图设计保护条例,适应(yīng)大规模(mó)集(jí)成电路发(fā)展需要,助(zhù)力芯片(piàn)产业做(zuò)大做(zuò)强,服务数字经济更好(hǎo)发展(zhǎn)。

  加强大数(shù)据、人工智能、基因(yīn)技术等新(xīn)领(lǐng)域新业态(tài)知识产权规则研究,助力(lì)相(xiāng)关领域创新发展。同(tóng)时,积极参与(yǔ)知识产权国际规则制(zhì)定,更(gèng跟ml一样吗洗发水,g和ml有区别吗g)好对接高标准(zhǔn)国际经贸规则,助力高水平对(duì)外(wài)开(kāi)放(fàng)。

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