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什么的柳条填合适的词,什么的柳条填空 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日(rì)消息,国家(jiā)知识产权局局长申(shēn)长雨在(zài)新闻发(fā)布会(huì)上表示(shì),将(jiāng)统筹推进各(gè)类知识产权法(fǎ)律法规和制(zhì)度规则的制修订工(gōng)作(zuò)。其(qí)中(zhōng),修改完善(shàn)集成电路布(bù)图设计保护条例,适应(yīng)大规模集成电路发展需要,助(zhù)力芯片产(chǎn)业做大做(zuò)强,服务什么的柳条填合适的词,什么的柳条填空数字经(jīng)济更好发展。

  加强大(dà)数(shù)据、人工(gōng)智能(néng)、基因(yīn)技术等新领域新业态知识产权规则(zé)研究,助(zhù)力相关领域创新(xīn)发展。同时(shí),积(jī)极参与(yǔ)知识产权(quán)国际规则制定,更好对接高标准(zhǔn)国际经贸规则,助(zhù)力高水(shuǐ)平对(duì)外开放。

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