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毁掉一个老师最好的办法

毁掉一个老师最好的办法 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好(hǎo),来看一则突发消(xiāo)息。

  美(měi)光公司在华(huá)销售的产品未(wèi)通(tōng)过网络(luò)安全审查

  据网信办消(xiāo)息,日前毁掉一个老师最好的办法,网络安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)对美光(guāng)公司在华销售产品进行了网络安全审(shěn)查。

  审查发现,美(měi)光(guāng)公司产品存在(zài)较严重(zhòng)网(wǎng)络安全问题隐患(huàn),对我国关键信(xìn)息基础设施(shī)供应链造成重大安全风险(xiǎn),影(yǐng)响我(wǒ)国国家安全。为(wèi)此,网络安全(quán)审(shěn)查办(bàn)公室依(yī)法(fǎ)作出(chū)不予通(tōng)过网(wǎng)络安全(quán)审查的(de)结论。按照《网络安全法》等法(fǎ)律(lǜ)法(fǎ)规,我国内(nèi)关键信息(xī)基(jī)础设施的运营(yíng)者应停(tíng)止采购美(měi)光公司产(chǎn)品。

  此次对(duì)美光(guāng)公司产品(pǐn)进行网络安全审查,目的是(shì)防范产品(pǐn)网络(luò)安(ān)全问题危害国家(jiā)关键信息基础设施安全,是维护国家安(ān)全的必要(yào)措施。中(zhōng)国坚定推进高水平对外开放,只要(yào)遵守中国法律法规要求,欢迎各国企业、各类平台(tái)产(chǎn)品服务进(jìn)入中国市场。

  半(bàn)导体突发(fā)!中国出手:停止采购(gòu)!

  3月31日,中国网信网发(fā)文称(chēng),为(wèi)保(bǎo)障关键信息基础设施供应(yīng)链安全,防范产品问(wèn)题隐(yǐn)患造成网络安全(quán)风险,维护国家安全,依据《中(zhōng)华(huá)人民共和(hé)国国家安全(quán)法(fǎ)》《中华人(rén)民共和国网络安全法(fǎ)》,网络安全(quán)审查办公(gōng)室按(àn)照《网络安全(quán)审查办(bàn)法》,对美(měi)光公(gōng)司(Micron)在华销售(shòu)的产(chǎn)品(pǐn)实施网络安全审查。

  半导体(tǐ)突发!中(zhōng)国出手(shǒu):停止采购!

  美光是美(měi)国的存储(chǔ)芯片行(xíng)业龙(lóng)头,也是全球存储(chǔ)芯片巨头之(zhī)一,2022年收入来(lái)自中国市场(chǎng)收入从此前高峰57%降至(zhì)2022年约11%。根(gēn)据市场(chǎng)咨询(xún)机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年(nián)三星电子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光在全球(qiú) DRAM (内存)市场份额约为(wèi) 94.35%。

  A股上市公司(sī)中,江波(bō)龙、佰维存储(chǔ)等公(gōng)司披(pī)露过美光等国际存储厂商为公司供应商。

  美光在江波龙采购占(zhàn)比已经(jīng)显著下降,至(zhì)少已经不(bù)是(shì)主要大(dà)供应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光位列江波龙(lóng)第一(yī)大存储晶圆供应商,采购约31亿元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江波龙第一大、第二大和第三大供应(yīng)商采购金(jīn)额占比分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已(yǐ)经在存储产业链上下游建立国内外广泛合(hé)毁掉一个老师最好的办法作。2022年年报显示,江波龙与(yǔ)三(sān)星、美光、西(xī)部数(shù)据等主要存储(chǔ)晶圆原厂签署了长期(qī)合约,确保存储晶(jīng)圆供应的稳定性,巩(gǒng)固公司在(zài)下游(yóu)市场的供(gōng)应优势,公司也与(yǔ)国内国产存储晶圆(yuán)原厂武汉长江存储、合肥长鑫保(bǎo)持良好(hǎo)的(de)合作(zuò)。

  有(yǒu)券(quàn)商此前(qián)就分析,如果美光在中(zhōng)国(guó)区销售(shòu)受到限制(zhì),或(huò)将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力(lì)士,国内长江(jiāng)存储、长鑫存储(chǔ)等竞(jìng)对产品(pǐn)

  分(fēn)析(xī)称(chēng),长存、长(zhǎng)鑫的上(shàng)游设备(bèi)厂或从中受益。存(cún)储器(qì)的生(shēng)产已经演进(jìn)到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外(wài)NAND Flash现(xiàn)在已经进(jìn)入3D NAND时代,2 维到(dào)3维的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为最关键(jiàn)、最大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿(yán)要刻到 60:1的深孔,未来可能会更深(shēn)的孔或者(zhě)沟槽,催生更多设(shè)备需(xū)求。据东(dōng)京电子披露,薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线资本开(kāi)支合计为75%。自(zì)长江存储被(bèi)加入美(měi)国(guó)限制(zhì)名单,设备国(guó)产(chǎn)化进程加速,看(kàn)好拓荆科(kē)技(薄膜沉(chén)积)等相关公司份额提升,以及(jí)存储业务(wù)占比较高的华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入(rù)增(zēng)长。

 

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