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学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高c 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息(xī),国家知识产(chǎn)权局局长(zhǎng)申长雨(yǔ)在(zài)新闻发布(bù)会(huì)上(shàng)表示,将(jiāng)统筹(chóu)推进各类知(zhī)识(shí)产权法律法规(guī)和制度规则的制(zhì)修订工作。其中,修(x学生党如何自W,14没有工具怎么自w到高ciū)改完善集成电路布(bù)图(tú)设计保护(hù)条(tiáo)例,适应大规模集成电路(lù)发展需要,助(zhù)力芯片产(chǎn)业做大(dà)做强,服(fú)务数字经济更好发展。

  加强大(dà)数(shù)据、人(rén)工智(zhì)能、基(jī)因技术等(děng)新领域(yù)新业态(tài)知识产权(quán)规(guī)则(zé)研究(jiū),助力(lì)相关领域(yù)创(chuàng)新发展(zhǎn)。同时,积极参与知识产权国际规(guī)则制(zhì)定(dìng),更好对接高(gāo)标(biāo)准国际经(jīng)贸规则,助力高水平对外开放。

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