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需要和须要意思的区别简单理解,必须与必需的区别通俗易懂 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月(yuè)24日消(xiāo)息,国家知识产权局局长申长(zhǎng)雨在新闻发布会(huì)上(shàng)表示(shì),将(jiāng)统(tǒng)筹推进(jìn)各类知(zhī)识产权法律法规和制度规则(zé)的制(zhì)修订工作。其中(zhōng),修改(gǎi)完善集成电路(lù)布图设计保(bǎo)护(hù)条例,适应大规模集成电路发展需要,助力芯(xīn)片产业(yè)做大做强,服(fú)务(wù)数字经济更好发展。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基(jī)因技(jì)术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领域创新(xīn)发展。同时,积(jī)极参与(yǔ)知识产权国际规则(zé)制定,更好对接高标(biāo)准国际经(jīng)贸(mào)规则,助需要和须要意思的区别简单理解,必须与必需的区别通俗易懂力高(gāo)水平(píng)对外开放。

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