大家好，来看一则突发消息。

　　美光公司在(zài)华销售的产品未(wèi)通过网络安全审(shěn)查

　　据(jù)网信办消(xiāo)息(xī)，日(敬备薄酌恭候光临是什么意思啊，敬备薄酌恭候光临的意思rì)前，网络安全审查办公室依法对美(měi)光公司在华(huá)销售产品进行了(le)网络安全审(shěn)查。

　　审(shěn)查(chá)发(fā)现，美光公司产品存在较(jiào)严重网(wǎng)络安(ān)全(quán)问题隐患，对(duì)我国关键信息基础设(shè)施供(gōng)应链造(zào)成(chéng)重大安全风险(xiǎn)，影响我国国(guó)家安全。为此，网络安全审查办公(gōng)室依(yī)法(fǎ)作出不(bù)予通过网络(luò)安全审(shěn)查(chá)的(de)结论(lùn)。按照《网络(luò)安全法(fǎ)》等法律法规，我国(guó)内关键信息(xī)基础设(shè)施的运营者(zhě)应停(tíng)止采购美光公司产品。

　　此次对美光公司产品进行网络安全审查，目的是防范产(chǎn)品网络安全(quán)问题(tí)危害国家关键信息(xī)基础设施安全(quán)，是维护国家(jiā)安全的必要(yào)措施(shī)。中国(guó)坚定推(tuī)进高水平对外(wài)开放(fàng)，只要遵守(shǒu)中国法律(lǜ)法规(guī)要求，欢迎各(gè)国企业、各类平台产品服务进入中国市(shì)场(chǎng)。

　　3月(yuè)31日(rì)，中国网信网发文(wén)称，为保障(zhàng)关键信(xìn)息基(jī)础设(shè)施供应(yīng)链安全，防范产品问题隐患造成(chéng)网络安全风险，维护国家安全(quán)，依(yī)据《中华人民共和国(guó)国家安全法》《中华人民共(gòng)和国网络安(ān)全(quán)法》，网(wǎng)络(luò)安全审查(chá)办(bàn)公(gōng)室按照《网(wǎng)络安全审查办法》，对美(měi)光公司(sī)（Micron）在华销售的产品实(shí)施网络安全审(shěn)查。

　　美光是美国的存储芯(xīn)片行业龙头(tóu)，也是全(quán)球存储芯片巨头之一，2022年收入来(lái)自中国市场收(shōu)入(rù)从此(cǐ)前高峰57％降至2022年约11％。根据(jù)市场(chǎng)咨(zī)询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三(sān)星电子、 铠侠、西(xī)部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光在全球(qiú) DRAM （内存）市场(chǎng)份额约为 94.35％。

　　A股上市公司(sī)中，江波龙、佰(bǎi)维存(cún)储(chǔ)等公司披露过美(měi)光(guāng)等(děng)国际存储(chǔ)厂商为公(gōng)司(sī)供应商。

　　美(měi)光在江波龙采购占比已经显(xiǎn)著下降(jiàng)，至少已经(jīng)不是主要大供应商。

　　公告显示(shì)， 2021年(nián)美光(guāng)位列(liè)江(jiāng)波龙第一大存(cún)储晶(jīng)圆(yuán)供应商，采购约31亿(yì)元，占(zhàn)比33.52％；2022年，江波龙第一(yī)大、第(dì)二大和第三(sān)大供(gōng)应商(shāng)采购金(jīn)额占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业链上下(xià)游建(jiàn)立(lì)国内外广泛合作(zuò)。2022年年报(bào)显示，江(jiāng)波(bō)龙与三星、美(měi)光、西部数据等主要存储晶圆(yuán)原厂签署了长期合约，确保存储晶(jīng)圆供应的稳定性(xìng)，巩固公司在下游市场的(de)供应优势，公司也与国内国产存储(chǔ)晶圆(yuán)原厂武(wǔ)汉长江存储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的(de)合(hé)作。

　　有(yǒu)券商(shāng)此(cǐ)前就分析，如果美(měi)光(guāng)在中国区销售受到限制(zhì)，或将导致下游客户转而采购国外三星、 SK海力士，国(guó)内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产品

　　分析称，长存、长(zhǎng)鑫(xīn)的上游设备厂(chǎng)或从中(zhōng)受(shòu)益。存储器的生产已经(jīng)演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另外NAND Flash现在已经进(jìn)入3D NAND时(shí)代，2 维到3维的结构转变使刻蚀和薄(báo)膜成为(wèi)最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺(yì)步骤，同时刻蚀(shí)目前前沿(yán)要刻到 60：1的深孔，未来可(kě)能会(huì)更深的孔或(huò)者(zhě)沟槽，催生更多设备(bèi)需求。据东京电子披露，薄(báo)膜沉积(jī)设(shè)备(bèi)及刻蚀占3D NAND产线资本开支合计为75％。自长(zhǎng)江存储被(bèi)加入美国(guó)限制名单，设备国产(chǎn)化进程加(jiā)速，看好拓荆(jīng)科技（薄(báo)膜沉(chén)积）等相关公司份额(é)提(tí)升，以及(jí)存储业务(wù)占比较高的华(huá)海(hǎi)清科（CMP）、盛美(měi)上海（清(qīng)洗）等收入增长。<敬备薄酌恭候光临是什么意思啊，敬备薄酌恭候光临的意思/p>

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