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　　美(měi)光(guāng)公司在(zài)华销(xiāo)售的产品(pǐn)未通(tōng)过(guò)网络安全(quán)审(shěn)查

　　据网信办消息，日前(qián)，网络(luò)安全审查办(bàn)公(gōng)室(shì)依(yī)法(fǎ)对美光公(gōng)司在(zài)华销售(shòu)产品(pǐn)进行(xíng)了(le)网络(luò)安(ān)全(quán)审查。

　　审查发现，美光公司产品存在较严(yán)重网络安全问题隐患，对我国关键(jiàn)信(xìn)息基础设施(shī)供(gōng)应链造成重大安(ān)全风险，影响我国国家安全(quán)。为此，网络安全审查办公室(shì)依(yī)法作出不予通过网络(luò)安全(quán)审查的(de)结论。按照《网络安全法》等法律法规，我国(guó)内(nèi)关键(jiàn)信息基(jī)础设施的(de)运营者应停止采购美(měi)光公司产(chǎn)品。

　　此次对美光(guāng)公(gōng)司产品进行网络安全审查，目(mù)的是防范产品网络安全问(wèn)题危害国家关键信(xìn)息基础设施安(ān)全，是(shì)维护国家安全的必要措施。中(zhōng)国坚定推(tuī)进高水平对外开(kāi)放，只要遵守中国(guó)法律法(fǎ)规(guī)要求(qiú)，欢(huān)迎各国企(qǐ)业、各类平(píng)台产品服务(wù)进(jìn)入中国市(shì)场。

　　3月31日，中国(guó)网(wǎng)信网发文称，为保障关(guān)键(jiàn)信息基础设施供应(yīng)链(liàn)安(ān)全，防范产品问题隐患造(zào)成网络安全风险(xiǎn)，维护国家安全，依据(jù)《中华人(rén)民(mín)共和国国家安全法》《中华人民共(gòng)和国网络安全法》，网(wǎng)络安全审查办公室按照《网络安(ān)全审(shěn)查(chá)办法》，对美(měi)光公司（Micron）在华销售的(de)产品实施网络安全审查。

　　美光是(shì)美(měi)国的存储芯(xīn)片行业龙头，也是全球存储芯片巨头之一，2022年收入来自(zì)中国市场收入(rù)从此前高峰57％降至2022年约11％。根据市场咨询机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三星(xīng)电子、 铠侠、西部数据、SK 海力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市(shì)场(chǎng)份(fèn)额约为 96.76％，三星(xīng)电(diàn)子、 SK 海力士(shì)、美光在全球(qiú) DRAM （内(nèi)存）市场份额(é)约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公(gōng)司(sī)中(zhōng)，江波(bō)龙、佰维存(cún)储等公司披露过美光(guāng)等(děng)国际存储厂商为公司供应商。

　　美光在江(jiāng)波龙采购(gòu)占比已经(jīng)显著下(xià)降，至少已经不是(shì)主要大供应商。

　　公告显示， 2021年美光位列江波龙第一大存储(chǔ)晶圆供应商，采购(gòu)约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三大供(gōng)应商(shāng)采购(gòu)金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波龙(lóng)已经在(zài)存(cún)储产业链(liàn)上下游建立国内外广(guǎng)泛合(hé)作。2022年年报显示，江波(bō)龙与三星、美光、西部数据(jù)等主(zhǔ)要存储晶(jīng)圆(yuán)原厂签署了长期合约(yuē)，确保存(cún)储晶圆供应的稳定性，巩固公司在下游市场的供(gōng)应优势(shì)，公司也与(yǔ)国内国产存储(chǔ)晶圆原厂武汉(hàn)长江(jiāng)存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作。

　　有券(quàn)商此前就分析，如果美光在中国区(qū)销售(shòu)受到限制，或将(jiāng)导致(zhì)下游客户转而(ér)采购国外(wài)三星、 SK海力士(shì)，国内长江存(cún)储、长鑫存储等竞对(duì)产品

　　分析称，长(zhǎng)存(cún)、长鑫的上游设备厂(chǎng)或从中受益。存储器的生产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工艺。另外NAND Flash现在已经(jīng)进(jìn)入3D NAND时代，2 维到3维的结(jié)构转(zhuǎn)变(biàn)使刻蚀(shí)和薄膜成为(wèi)最关键、最大(dà)量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需(xū)要经(jīng)过薄(báo)膜沉积工(gōng)艺(yì)步骤，同时(shí)刻蚀目前前沿要刻(kè)到 60：1的深孔，未来(lái)可能会更深的孔或者沟槽，催(一文钱等于多少人民币，一贯钱相当于现在多少钱cuī)生更多(duō)设备需求。据东京(jīng)电子披(pī)露，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产线资(zī)本开支合计(jì)为75％。自长江(jiāng)存(cún)储被(bèi)加入美国限制名单，设备国产化进(jìn)程加速，看好拓荆(jīng)科(kē)技（薄膜沉积）等相关公司(sī)份额提(tí)升，以及存储业务占比较高(gāo)的华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。

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