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亲爱的让你㖭我下黑

亲爱的让你㖭我下黑 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日(rì)消息,国家(jiā)知识产权局局长(zhǎng)申长雨在新闻发(fā)布(bù)会上表示,将统筹推进各(gè)类知识产权法律法规和制度规则的制修(xiū)订工作。其(qí)中,修(xiū)改完善集成电(diàn)路布图设计保护条例,适应(yīng)大规模集成(chéng)电路发(fā)展需要(yào),助力芯片产(chǎn)业做大做强,服(fú)务数(shù)字经(jīng)济更好发展。

  加强大数据、人工智能、基(jī)因(yīn)技(jì)术(shù)等新领(lǐng)域(yù)新业(yè)态知(zhī)识产权规则(zé)研究,助力相关(guān)领域创新发(fā)展。同时,积极参(cān)与知识产权(quán)国际规则制(zhì)定,更(gèng)好(hǎo)对(duì)接高标准国际经贸规则亲爱的让你㖭我下黑,助力(lì)高水平对外开放。

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