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　　美光(guāng)公(gōng)司在华销售的(de)产品(pǐn)未通过(guò)网络安全(quán)审查

　　据网信办消(xiāo)息，日(rì)前，网络安全审查办(bàn)公室依法对美光(guāng)公(gōng)司在(zài)华销售产品(pǐn)进行了(le)网络安全审查。

　　审查发现，美光公司产品(pǐn)存在较严重网络(luò)安全问题隐(yǐn)患，对我国关键信(xìn)息基础设施(shī)供应(yīng)链造成重大安全风险，影响我国(guó)国(guó)家安全。为此，网络安全(quán)审查办公(gōng)室依法作出不予通过网络安全审查的结论。按照《网络安全法》等法律法规，我国内关键信息基础设(shè)施(shī)的(de)运(yùn)营者应停止采(cǎi)购美光公司产品(pǐn)。

　　此次对(duì)美光公司产品进行网(wǎng)络安全审查，目的(de)是防范产品网(wǎng)络(luò)安全问题危害国家关键信息基础(chǔ)设施安(ān)全，是维护国家安全的必要(yào)措(cuò)施。中国(guó)坚定推进高水平对外开放(fàng)，只要遵守中(zhōng)国法(fǎ)律法规(guī)要求(qiú)，欢迎各国企(qǐ)业(yè)、各类平台产品服务(wù)进(jìn)入(rù)中国市场(chǎng)。

　　3月31日欧莱雅精华肌底液好用吗，欧莱雅肌底液的作用和功效，中国网信网发(fā)文称，为保(bǎo)障关键(jiàn)信息基础设施供应链安全，防范产品问题(tí)隐患造成网(wǎng)络安全(quán)风险，维护(hù)国家安全，依据《中华(huá)人民共和国(guó)国家安全法(fǎ)》《中华(huá)人民共和国网络安全法》，网络(luò)安全审(shěn)查办(bàn)公室按照《网(wǎng)络安全审查办(bàn)法(fǎ)》，对美光公司（Micron）在华(huá)销(xiāo)售的产品实施网络安全审查。

　　美光是美国的存储(chǔ)芯(xīn)片行业龙头，也是全球存储芯(xīn)片巨头(tóu)之一，20欧莱雅精华肌底液好用吗，欧莱雅肌底液的作用和功效22年收入来(lái)自(zì)中国(guó)市场收入从此前高峰57％降至202欧莱雅精华肌底液好用吗，欧莱雅肌底液的作用和功效2年约11％。根据市场咨询(xún)机构 Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计，2021 年三(sān)星电子、 铠(kǎi)侠、西(xī)部数(shù)据、SK 海(hǎi)力士、美(měi)光(guāng)、Solidigm 在(zài)全(quán)球 NAND Flash （闪存）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士(shì)、美(měi)光在全球 DRAM （内存）市(shì)场(chǎng)份(fèn)额约为 94.35％。

　　A股上市公司中(zhōng)，江波龙、佰(bǎi)维(wéi)存储(chǔ)等公司披露过美(měi)光等国际(jì)存储厂商为(wèi)公司(sī)供应商(shāng)。

　　美光在江波龙采购占比已经(jīng)显著(zhù)下降(jiàng)，至少已经不(bù)是(shì)主要大供应(yīng)商。

　　公告显示， 2021年美(měi)光位列(liè)江波龙第一大存储晶圆供应商(shāng)，采(cǎi)购约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第(dì)一大(dà)、第二大和第三(sān)大供应商采购金额(é)占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江(jiāng)波龙已经在存储产业链上下游建立国内外广泛合作(zuò)。2022年年报显示，江波龙与三星、美光、西部(bù)数据等主要存(cún)储晶圆(yuán)原厂签署了长期(qī)合约，确保存储晶圆供应的(de)稳定性(xìng)，巩(gǒng)固公(gōng)司在下游市场的供应(yīng)优势，公司也(yě)与国内(nèi)国(guó)产存储晶圆原厂武汉(hàn)长江存储、合(hé)肥长鑫保持良好(hǎo)的合作。

　　有券商此前就分析，如(rú)果(guǒ)美光在(zài)中国区(qū)销(xiāo)售受到限制，或将导致下游客(kè)户转而采(cǎi)购国(guó)外(wài)三星(xīng)、 SK海(hǎi)力(lì)士(shì)，国内长江存储、长鑫存(cún)储等竞对产(chǎn)品

　　分析称，长存、长鑫(xīn)的上(shàng)游设(shè)备厂或从中受益。存储器(qì)的生产(chǎn)已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代，2 维到3维(wéi)的结构(gòu)转变使刻蚀和薄膜成为最关键(jiàn)、最大(dà)量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均(jūn)需要经过(guò)薄(báo)膜沉积工艺步骤，同时刻蚀目前(qián)前沿要刻(kè)到(dào) 60：1的(de)深(shēn)孔(kǒng)，未来可能会更深的(de)孔或者沟槽，催生更(gèng)多(duō)设备需求(qiú)。据东京电子披露(lù)，薄膜沉积设备及刻(kè)蚀占3D NAND产线(xiàn)资本开支合计为75％。自长江(jiāng)存储被加入美国限制名单，设备国产化(huà)进程加速，看好拓荆科技(jì)（薄膜沉积(jī)）等相关(guān)公司份额提(tí)升，以及(jí)存储业务占(zhàn)比较高的华海清(qīng)科（CMP）、盛美上海（清洗(xǐ)）等收入增长。

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