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回复好和好的的区别在哪里,好,好的区别 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月(yuè)24日消息,国家(jiā)知识产权局(jú)局长申长雨(yǔ)在(zài)新闻发(fā)布会上表示,将统筹(chóu)推进各类知识产权法律法规(guī)和制度规则(zé)的制(zhì)修订工作。其中,修(xiū)改完(wán)善集回复好和好的的区别在哪里,好,好的区别成(chéng)电路布图(tú)设计(jì)保护条例,适应大规模集成电路(lù)发展需要,助力(lì)芯片产(chǎn)业(yè)做大做(zuò)强,服(fú)务数字经(jīng)济(jì)更好(hǎo)发展。

  加强大数据、人(rén)工智(zhì)能、基(jī)因技术等新领(lǐng)域新业(yè)态知识产权规则(zé)研(yán)究,助力(lì)相关(guān)领域创新(xīn)发(fā)展。同时,积极(jí)参与知识产权国(guó)际规则(zé)制定,更好对接(jiē)高标(biāo)准(zhǔn)国际经(jīng)贸规则(zé),助力高(gāo)水平对外(wài)开放。

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