大家好，来看一则突发消息。

　　美(měi)光公司在华(huá)销售的(de)产品未通过网络安全(quán)审查

　　据网(wǎng)信办消(xiāo)息，日前，网(wǎng)络安全审查办公室依法对美光公司在华销(xiāo)售产品(pǐn)进行了网络安(ān)全审(shěn)查(chá)。

　　审查发(fā)现，美光(guāng)公司产品存在较(jiào)严重网络安全问题隐患，对我国关(guān)键信(xìn)息基(jī)础设施供应链造成重大安(ān)全风险，影响我(wǒ)国国家(jiā)安(ān)全。为此，网络安(ān)全审(shěn)查办公(gōng)室依法作出不(bù)予通过网络安全审查的(de)结论。按(àn)照(zhào)《网络安全法》等(děng)法律法(fǎ)规，我国内英红九号是名茶吗，英九红茶叶价格一览表关键信息基础设施(shī)的运营者(zhě)应停止采购美(měi)光公司产品(pǐn)。

　　此次对美光公司(sī)产品(pǐn)进行网络安(ān)全审查，目的是防范产(chǎn)品网络安全问题危害国家(jiā)关键信(xìn)息基础设施(shī)安(ān)全(quán)，是维护国(guó)家安全(quán)的必要措施(shī)。中国坚定推进高水平对外(wài)开放(fàng)，只(zhǐ)要遵守中国法律法规(guī)要(yào)求，欢(huān)迎各国(guó)企业、各类平台产品服务进入中国(guó)市场。

　　3月31日(rì)，中(zhōng)国(guó)网信网发文称，为保障关键信息(xī)基础设施供应链安(ān)全，防范(fàn)产品问(wèn)题隐患造(zào)成网络安全风险，维护国家(jiā)安全，依据《中华人民共和国国家安全法》《中华人民共和国网(wǎng)络安全法(fǎ)》，网络(luò)安全审查办公室按照《英红九号是名茶吗，英九红茶叶价格一览表网络安全审查(chá)办法》，对(duì)美光公司（Micron）在华销(xiāo)售的产品实施(shī)网络安全审查。

　　美光是美国的存储芯片行(xíng)业龙头，也(yě)是(shì)全球(qiú)存储芯(xīn)片巨头之一，2022年收(shōu)入来自中国(guó)市场收入从(cóng)此前高峰57％降至(zhì)2022年(nián)约11％。根据(jù)市(shì)场咨询机(jī)构 Omdia（IHS Markit）统英红九号是名茶吗，英九红茶叶价格一览表计，2021 年三星电子、 铠(kǎi)侠、西部数据(jù)、SK 海力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场(chǎng)份额约为 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海(hǎi)力士、美光在全球 DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股上市公司中，江波龙、佰维存储等公司披(pī)露过美光等(děng)国际存储厂商为(wèi)公司供应商。

　　美光在(zài)江波龙采购占比已经(jīng)显著下(xià)降，至(zhì)少已经不是主要大(dà)供应商。

　　公(gōng)告显示， 2021年(nián)美(měi)光位(wèi)列江波龙(lóng)第(dì)一大存(cún)储晶圆供应商，采(cǎi)购约31亿元(yuán)，占比33.52％；2022年，江波龙第一大(dà)、第(dì)二大和第三大供应(yīng)商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已(yǐ)经在(zài)存储产(chǎn)业链上下游建立国内外广泛合作。2022年年报显示，江波龙与三(sān)星(xīng)、美(měi)光、西部数据等主(zhǔ)要存储晶圆原(yuán)厂(chǎng)签署(shǔ)了长期(qī)合(hé)约，确保存储晶(jīng)圆供应(yīng)的稳定(dìng)性，巩固公司在下游市场的供应(yīng)优势，公(gōng)司也与国(guó)内国产(chǎn)存储晶圆原厂(chǎng)武汉长江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好(hǎo)的(de)合作。

　　有券商(shāng)此(cǐ)前就(jiù)分析，如果美光(guāng)在中国区销(xiāo)售受到(dào)限制，或将导致下(xià)游客户转而(ér)采购国外(wài)三星、 SK海(hǎi)力士(shì)，国内长江存(cún)储、长(zhǎng)鑫存(cún)储等竞对(duì)产品

　　分析称，长(zhǎng)存、长鑫(xīn)的上游(yóu)设(shè)备厂或(huò)从中(zhōng)受益。存储(chǔ)器(qì)的生产已(yǐ)经(jīng)演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工(gōng)艺。另外NAND Flash现在(zài)已(yǐ)经进入(rù)3D NAND时代，2 维到(dào)3维的结构(gòu)转变使刻蚀和(hé)薄膜(mó)成为(wèi)最(zuì)关键、最大量的加(jiā)工(gōng)设备。3D NAND每层(céng)均需要经过薄膜(mó)沉积(jī)工艺步骤，同时刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60：1的深(shēn)孔，未(wèi)来可能会更深的孔或者沟槽，催生更多设备(bèi)需求。据(jù)东(dōng)京电(diàn)子披露，薄膜(mó)沉积设备及刻蚀(shí)占3D NAND产线资本开支(zhī)合计(jì)为75％。自长(zhǎng)江存储被加入美国限制名单，设备国产(chǎn)化进程加速，看好拓荆(jīng)科技（薄膜沉积）等相关公司份额提升，以及存储(chǔ)业务占比较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入(rù)增长。

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